加熱脱着導入システム
チューブをリフトアップして加熱炉へ挿入するユニークなチューブ交換機構が、オートサンプラーから流路切り替えバルブを不要にしました。今までバルブや長い配管系内に残留し、分析の障害となっていたメモリーやコンタミネーションがほとんど起こりません。特にSVOC成分の分析に対して有効です。加熱脱着後、加熱炉の試料チューブを空チューブに交換する機能と加熱炉を冷却する機能も有しており、余熱の影響によるキャリーオーバーもありません。
加熱脱着させるTDS3からクライオフォーカスさせるCIS4まで、不活性処理済みprosteelキャピラリーでわずか約15cm。可能な限り短いトランスファーラインを実現しました。分析カラムは直接、CIS4に接続します。加熱脱着／カラム導入時の両方でスプリット／スプリットレスを選択できるため、広い濃度範囲の試料に対応できます。脱着時のガス流量を大きくできるため、短時間で加熱脱着できます。特に熱に不安定な化合物に対して有効です。
